精密XY平台,气浮轴承,陶瓷制品部件,气浮滑轨 MOTION TRUST

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半导体制造设备XYZθ倾斜平台

规格X轴(上轴)Y轴(下轴)Z轴Θ轴
外形尺寸1,300*1,400*410mm
行程400mm400mm8mm±10arcsec
最大速度300mm/sec300mm/sec--
最大加速度0.3G0.3G--
减速后的整定时间 90msec
(整定幅度0.2μm)
110msec
(整定幅度0.2μm)
150msec
(整定幅度0.16arcsec)
20msec
(整定幅度1μm)
静止时的稳定性±0.04μm±0.02μm±0.01μm±0.12arcsec
※X轴(上轴):为气浮导轨规格、Y轴(下轴):直线导轨规格

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半导体测试设备气浮滑轨XY平台

规格X轴(上轴)Y轴(下轴)
外形尺寸2,000*1,350*515mm
行程275mm225mm
重复定位精度±0.03μm±0.02μm
直线度(水平)0.3μm0.3μm
直线度(垂直)0.3μm0.3μm
Pitch0.9秒0.8秒
Yaw0.8秒0.3秒
Roll1.0秒1.0秒
静止时的稳定性10.75nm(p-p)16.5nm(p-p)
※精度保证范围:150mm行程、速度:100mm/sec

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半导体制造设备XYZθ平台(搭载1.5D编码器)

规格X轴(上轴)Y轴(下轴)Z轴Θ轴
外形尺寸1,100*1,005*720mm
行程120mm200mm5mm2.0度
重复定位精度 ±0.032μm ±0.024μm ±0.050μm ±0.069秒
直线度(水平・动态)0.72μm0.45μm--
Yaw(静态)1.96秒0.37秒2.0秒-
Roll(静态)1.59秒-0.20秒-
静止时的稳定性---±39nm

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用于PCB制造设备的XYZθ平台

规格X轴(上轴)Y轴(下轴)Z轴Θ轴
外形尺寸1,450*1,650*1,355mm
行程340mm390mm10mm±1.0度
绝对定位精度(改正后)±0.37μm±0.10μm--
重复定位精度±0.08μm±0.02μm±0.14μm±0.18μm
直线度(水平)0.29μm1.29μm--
Pitch(静态)1.09秒---
Yaw(静态)0.33秒---

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用于大型PCB制造设备的XYθ平台

规格X轴(上轴)Y轴(下轴)Θ轴
外形尺寸1,860*2,270*1,844mm
行程620mm1,100mm±4mrad
重复定位精度±0.069μm±0.071μm-
Yaw3.35秒/200mm1.14秒/200mm-
Roll1.63秒/200mm2.37秒/200mm-

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用于半导体和Micro LED制造设备的XY平台(高节拍规格)

规格X轴(下轴)Y轴(上轴)
外形尺寸-
行程±200mm±175mm
最大速度1,500mm/sec
最大(平均)加速度2G
整定时间(完成定位的宽度±0.25μm)29.3msec14.8msec
重复定位精度±0.05μm±0.03μm
Pitch6.04秒8.89秒
Yaw2.9秒4.27秒
直线度(垂直)1.91μm4.08μm
直线度(水平)2.54μm2.51μm

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