半導体用小型ステージから、液晶用大型ステージまで幅広い製作実績を誇ります。
液晶製造装置用としては、第10世代対応ステージも製作実績があります。
製品画像クリックで、詳細がご覧いただけます。
☆超精密モデル（用途：半導体用小ストローク検査装置向け）
エアーガイド仕様にて構成した低重心かつ高さを低く抑えた、超精密駆動を追求したステージです。
| 仕様 | X軸（上軸） | Y軸（下軸） |
|---|---|---|
| ストローク | 400mm | 400mm |
| 外形寸法 | 1250*1000*270mm | |
| 分解能 | 0.4nm | |
| 真直度（水平） | 0.2μm/100mm | |
| 真直度（垂直） | 0.2μm/100mm | |
| ピッチング | 0.5秒/100mm | |
| ヨーイング | 0.5秒/100mm | |
| 速度安定性 | ±0.05％※1 | |
☆高真直度・高再現性モデル（用途：液晶用測定装置向け）
エアーガイド仕様にて構成した、長いストローク間のどの場所においても繰り返し再現性の精度を追求したステージです。
| 仕様 | X軸（上軸） | Y軸（下軸） |
|---|---|---|
| ストローク | 2250mm | 2700mm |
| 外形寸法 | 3640*4140*2040mm | |
| 分解能 | 0.02μm | |
| 繰り返し位置決め精度 | ±0.07μm | |
| 真直度（水平） | 3μm/2700mm | |
| 真直度（垂直） | 7μm/2700mm | |
☆高速移動・高速位置決めモデル(用途：液晶用製造装置向け)
リニアガイド仕様にて構成した繰り返し位置決め精度と整定時間を重視し、高タクトを追求したステージです。
| 仕様 | X軸（上軸） | Y軸（下軸） |
|---|---|---|
| ストローク | 1300mm | 1700mm |
| 外形寸法 | 3500*3160*1200mm | |
| 分解能 | 0.015μm | |
| 繰り返し位置決め精度 | ±0.08μm | |
| 最高速度 | 1500mm/sec | |
| 加減速 | 0.3G | |
| ※負荷重量 | 3ｔ | |
| 整定時間 | 400msec | |
☆高精度位置決めモデル(用途：レーザー用加工装置向け)
エアガイド仕様にて構成した、大型ワークの加工を目的とした加工中の過負荷により発生する振動のブレを抑制し、高精度位置決めを追求したステージです。
| 仕様 | X軸（上軸） | Y軸（下軸） |
|---|---|---|
| ストローク | 2300mm | 3500mm |
| 外形寸法 | 3500*5000*2600mm | |
| 分解能 | 0.015μm | |
| 繰り返し位置決め精度 | ±0.2μm | |
| 真直度（水平） | 5μm/3500mm | |
| 真直度（垂直） | 8μm/3500mm | |
| ピッチング | 3秒/3500mm | |
| ヨーイング | 1秒/3500mm | |
☆超精密モデル（用途：液晶製造装置向け）
直交型両軸エアガイド仕様にて構成した、高精度位置決め且つ、両軸スキャン駆動を追求したステージです。
| 仕様 | X軸（上軸） | Y軸（下軸） |
|---|---|---|
| ストローク | 690mm | 1,550mm |
| 外形寸法 | 1,600*1,660mm | |
| 繰り返し位置決め精度 | ±0.097μm | |
| 整定時間 | 400msec | |
| 最高速度 | 500mm/sec | |
| 真直度(垂直・水平) | ±1.2μm ±1.13μm | ±2μm ±0.63μm |
| 速度安定性 | ±0.1％ (35mm/sec時) | |
| サンプリング周波数 | 100Hz | |
☆高速位置決めモデル（用途：液晶検査装置向け）
製缶フレーム構造を採用することにより、ローコストでの大型ステージを実現し且つ、高性能を実現しております。
| 仕様 | X軸（上軸） | Y軸（下軸） |
|---|---|---|
| ストローク | 2,490mm | 3,106mm |
| 外形寸法 | 3,080*4,000*1,942mm | |
| 繰り返し位置決め精度 | ±10μm | |
| 最高速度 | 300mm/sec | |
| 真直度(垂直・水平) | ±20μm | |
